光刻胶稳定性

化学稳定性：在正常储存和操作条件下，在密闭容器中室温稳定。

避免的条件: 火源、湿气、过热的环境。

不相容的其他材料: 强氧化剂。

光刻胶毒理资料

淡黄色液体，气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。

毒性数据

皮肤：可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状，类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。

眼睛：引起眼睛发炎。

吸入：吸入时可能有害。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。

摄食：吞食有害。

延迟效应：肝和肾损害，以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。

9，去胶:湿法去胶，用溶剂、用NONG硫酸。负胶，98%H2SO4+H2O2+胶=CO+CO2+H2O，正胶：BIN酮，干法去胶（ash）氧气加热去胶O2+胶=CO+CO2+H2O，等离子去胶Oxygenplasma ashing，高频电场O2---电离O- + O+，  O+活性基与胶反应CO2，CO， H2O， 光刻检验

四、前烘（Soft Bake）

完成光刻胶的涂抹之后，需要进行软烘干操作，光刻胶 怎么样，这一步骤也被称为前烘。前烘能够蒸发光刻胶中的溶剂溶剂、能使涂覆的光刻胶更薄。

在液态的光刻胶中，光刻胶湿刻，溶剂成分占65％－85％。虽然在甩胶之后，液态的光刻胶已经成为固态的薄膜，但仍有10％－30％的溶剂，容易沾污灰尘。通过在较高温度下进行烘培，光刻胶 日本，可以使溶剂从光刻胶中挥发出来（前烘后溶剂含量降至5％左右），从而降低了灰尘的沾污。同时，这一步骤还可以减轻因高速旋转形成的薄膜应力，从而提高光刻胶 衬底上的附着性。

在前烘过程中，光刻胶，由于溶剂挥发，光刻胶厚度也会减薄，一般减薄的幅度为10％－20％左右。

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