等离子清洗机支持手动和自动化操作，小型等离子清洗机体积和专有的等离子体过程控制实现了无与伦比的短周期时间，真空等离子清洗机真空腔体，使用专有的算法可以在几秒钟内实现对腔室的功率.

    等离子清洗机支持手动和自动化操作（内置或内置处理程序），特别均匀和紧凑的腔室设计允许可互换的处理配置和等离子体模式，三轴对称等离子体室确保产品的所有位置均匀处理，而对所有工艺参数的严格控制确保了产品与产品之间可重复的结果。

   小型等离子清洗机体积和专有的等离子体过程控制实现了无与伦比的短周期时间，而其纤薄的结构使占地面积需求小化。通用架构可处理多种产品形式因素，包括载体，等离子，条带，层压板，及晶片。根据吞吐量和产品形式的要求，系统可以配置为单个和多个条带或引线框架，晶圆处理和独立于岛屿生产环境的杂志到杂志的处理。系统自动回收到等离子体就绪状态，补偿真空压力，温度和不同批次尺寸的变化。使用专有的算法可以在几秒钟内实现对腔室的功率，膜 表面等离子处理，该算法会持续测量腔室内的向前和反射功率。

    达因特SPV真空等离子体清洗机，等离子处理表面机器，用于批量处理的超大腔体等离子体处理系统，真空等离子清洗机通过广泛的研究和开发，提供独特的真空和气体流动技术.

    真空等离子体清洗机：使用脉冲RF来增强等离子体聚合膜的性能，是原型，先导或生产加工基材的理想选择。可靠性和工艺质量与达因旆独特的搁架设计和等离子体中发现的反应离子的优化应用相结合，提高了处理均匀性，同时缩短了处理时间。用于处理所有类型零件和部件的成本和空间有效的真空等离子体处理机。等离子体室由11号不锈钢和铝制固定装置构成，具有出色的耐用性。该腔室具有多个可拆卸和可调节的架子，可容纳一系列部件，可容纳多达14个电极位置。PD-1000标配配备两个质量流量控制器，用于气体控制。

  采用特殊工艺，等离子清洗还可用于处理有机硅材料。可确保表面不含有 LABS，甚至是对于硅橡胶。通过创新和极具环保意识的低压等离子体技术可以除去待涂层零部件表面的 LABS 物质，从而解决了这个关键问题。集成于生产链的等离子清洗流程具有以下优点：

降低了返工率

降低了废品率

避免出现投诉

提高材料生产安全性

    达因特还以这些工艺提供表面处理服务。为此，我们提供了多台等离子设备以及经验丰富的资质员工。这样，我们便能够确保您的零部件和组件具有好的表面质量。