电化学抛光所需条件及设备

（1）电源：电源可选用双相220V，三相380V。

（2）整流器电解抛光对电源波形要求不是太严格，可选用可控硅整流器好高频整流器。整流器空载电压：0—20v负载电压（工作电压）：8—10v工作电压低于6v，抛光速度慢，光亮度不足。整流器电流：根据客户工件大小而定。

（3）电解槽及配套设施（阳极棒）可选用硬板材焊接而成。在槽上装三根电极棒，中间为可移动的阳极棒，接电源阳极（或正极），两侧为阴极棒，电解抛光，连接电源阴极（负极）。

流体抛光

流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

电解抛光实际上是利用电化学阳极溶解的原理对金属表面进行抛光的一种方法。阳极为要进行抛光的工件，阴极为用铅板制成的与工件加工面相似形状的工具电极，与工件形成一定的电解间隙。当电解液中通以直流电时，阳极表面发生电化学溶解，工件表面被一层溶化的阳极金属和电解液所组成的粘膜所覆盖，铝合金电解抛光，其粘度很高，电解抛光机，电导率很低。工件表面的高低不平，凹入部分的粘膜较厚，电阻较大，而凸起部分的粘膜较薄，电阻较小。因此，凸起部分的电流密度比凹入部分的大，电解抛光设备，溶解得快，经过一段时间后，就逐渐将不平的金属表面蚀平，从而得到与机械抛光相同的效果。

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